隔紫外片(通稱紫外反射片、紫外濾除片、紫外截止片、UV CUT Filters、UV STOP 或 UV BLOCK)係採用高階多層介電質干涉鍍膜技術製作之精密光學濾波元件,專為高效反射或截止有害紫外線波段(UV-A / UV-B / UV-C)、同時維持高效率可見光穿透所設計。
功能說明:
紫外線容易造成博物館文物褪色脆化、高分子材料老化黃化、黃光微影製程曝光異常,以及數位感光元件(CMOS / CCD)色彩失真與霧化。本產品運用物理氣相沉積電子槍蒸鍍技術(PVD-EBGE)於高平坦度光學玻璃基板(如 SCHOTT B270、Borofloat 33、Corning EAGLE XG)上精密蒸鍍數十層高低折射率介電質薄膜。利用精確之光學干涉原理,能將近紫外至深紫外波段(200–400 nm)高效率反射阻絕($R > 99\%$,OD2–OD4+),同時讓可見光波段(400–750 nm)維持極高之光學穿透率($T > 95\%$)。膜層具備高耐熱性(450°C–500°C)、高表面硬度與優異之抗 UV 高能量照射能力,長時間於高強度紫外線下照射絕不黃變、不劣化、不脫膜。
應用領域:
博物館與藝廊展示照明保護視窗、半導體與面板廠黃光室(Yellow Room)防紫外照明、高功率燈具與投光燈防紫外濾光片、工業自動光學檢測(AOI 機器視覺系統)、數位相機與攝影機保護鏡,以及光學保護視窗。
光學特性:
T50%=370 +/- 15nm
Tave>88% @ 430-700nm
Tave< 1% @ 200-340nm
可供應材質、厚度及尺寸:
青板: 1.1mm
強化青板: 2.0, 3.0mm
耐熱: 1.1mm
方形: 8x8 - 310x320mm
圓形: Dia8 - 300mm
最高安全溫度:
青板: 150℃
強化青板: 250℃
耐熱: 450℃
光學特性:
T50%=400 +/- 15nm
Tave>88% @ 450-700nm
Tave<1% @ 200-380nm
可供應材質、厚度及尺寸:
青板: 1.1mm
強化青板: 2.0, 3.0mm
耐熱: 1.1mm
方形: 8x8 - 310x320mm
圓形: Dia8 - 300mm
最高安全溫度:
青板: 150℃
強化青板: 250℃
耐熱: 450℃
光學特性:
T50%=425 +/- 15nm
Tave>88% @ 450-700nm
Tave<1% @ 200-400nm
可供應材質、厚度及尺寸:
青板: 1.1mm
強化青板: 2.0, 3.0mm
耐熱: 1.1mm
方形: 8x8 - 310x320mm
圓形: Dia8 - 300mm
最高安全溫度:
青板: 150℃
強化青板: 250℃
耐熱: 450℃
光學特性:
T50%=525 +/- 15nm
Tave>88% @ 550-700nm
Tave<1% @ 200-500nm
可供應材質、厚度及尺寸:
青板: 1.1mm
強化青板: 2.0, 3.0mm
耐熱: 1.1mm
方形: 8x8 - 310x320mm
圓形: Dia8 - 300mm
最高安全溫度:
青板: 150℃
強化青板: 250℃
耐熱: 450℃
1. 隔紫外片(UV Cut Filters)提供全客製化設計生產服務,可依據光路防護需求調配指定截止波長(如 380 nm、400 nm 或 420 nm 截止等規格)。
2. 隔紫外片採用高階多層介電質薄膜真空蒸鍍而成,鍍膜層數依可見光穿透率與紫外波段截止深度(OD 值)要求不同,通常約在 20 至 40 層之間。
3. 鍍膜製程採用高階物理氣相沉積法之電子槍蒸鍍技術(PVD-EBGE / Physical Vapor Deposition-Electron Beam Gun Evaporation),薄膜緻密性高、吸收率低,具備優異之高耐熱性(450°C–500°C)與極佳之薄膜附著力。
4. 標示之光譜穿透與截止曲線均為垂直入射(入射角 0°,AOI=0°)下之光譜儀實際量測數據;由於干涉膜層之光程特性,紫外截止邊界會隨光線入射角度之增加而向短波長方向偏移(藍移現象)。
5. 基板如需進行化學強化或物理強化處理,受限於加工物理特性有最小厚度、尺寸及幾何形狀限制,詳細規範請參考強化玻璃技術簡介。
6. 穿透與截止光譜曲線為生產樣品之實際測量結果,不同生產批次間可能存在微幅公差,但均嚴格控制於預設之中心波長與光譜工程規格驗收標準內。
7. 網站標示規格僅供參考,實際交貨品質與驗收標準嚴格以雙方確認規格書(Specification Sheet)為準。
8. 瀏覽以下連結以獲取更多產品與技術資訊: