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    衰減片/Neutral Density

    衰減片,Neutral Density,nd

    衰減片/中性密度減光片(Neutral Density Filters / ND Filters)

    衰減片/中性密度減光片(通稱減光片、Neutral Density Filters、ND 鏡或光強調節片)採用高階真空鍍膜或光學吸收技術製作之精密光度調控元件,專為均勻降低寬波段光束強度、防止感光元件飽和過載並維持高色彩還原度所設計。

    功能說明:
    當光線入射時,機能性膜層或基材能選擇性反射與吸收光子,使可見光及紅外光波段之光能等比例衰減,達成精準控制光學穿透率之效果。本公司提供全客製化衰減率設計,可指定特定光學密度(Optical Density, OD 0.1 至 OD 4.0+)、指定波段穿透率或連續漸變減光(Gradient ND)規格。採用高平坦度光學玻璃基板(如 SCHOTT B270、Borofloat 33、高純度熔融石英 / Quartz),結合物理氣相沉積電子槍蒸鍍技術(PVD-EBGE),膜層光學衰減分佈極為均勻,且具備優異之高耐熱性(450°C–500°C)、高表面硬度與環境穩定性,長時間承受強光或雷射照射絕不脫膜或褪色。

    應用領域:
    工業自動光學檢測(AOI 機器視覺曝光控制)、雷射光束品質分析與能量衰減系統、高階攝影與影視相機鏡頭(防止大光圈過曝)、醫療光學檢測儀器、光電計量校正及光敏感測器防護模組。

      衰減片,Neutral Density

    ITEM NO. ND80

    Tave=80 +/-5% @420-700nm

    ITEM NO. ND70

    Tave=70 +/-5% @420-700nm

    ITEM NO. ND60

    Tave=60 +/-5% @420-700nm

    ITEM NO. ND50

    Tave=50 +/-5% @420-700nm

    ITEM NO. ND40

    Tave=40 +/-5% @420-700nm

    ITEM NO. ND30

    Tave=30 +/-5% @420-700nm

    ITEM NO. ND20

    ave=20 +/-5% @420-700nm

    ITEM NO. ND15

    Tave=15 +/-3% @420-700nm

    ITEM NO. ND10

    ave=10 +/-3% @420-700nm

    ITEM NO. ND5

    Tave=5 +/-3% @420-700nm

    ITEM NO. ND3

    Tave=3 +/-2% @420-700nm

    ITEM NO. ND1

    Tave=1 +/-1% @420-700nm

    可供應材質、厚度及尺寸:

    青板: 1.1, 3.0mm

    方形: 8x8 - 220x220mm

    圓形: Dia8 - 210mm

    最高安全溫度:

    青板: 150℃

      衰減鏡/衰減片/Neutral Density,nd80, 岳華展 衰減鏡/衰減片/Neutral Density,nd70, 岳華展 衰減鏡/衰減片/Neutral Density,nd60, 岳華展 衰減鏡/衰減片/Neutral Density,nd50, 岳華展 衰減鏡/衰減片/Neutral Density,nd40, 岳華展 衰減鏡/衰減片/Neutral Density,nd30, 岳華展 衰減鏡/衰減片/Neutral Density,nd20, 岳華展 衰減鏡/衰減片/Neutral Density,nd15, 岳華展 衰減鏡/衰減片/Neutral Density,nd10, 岳華展 衰減鏡/衰減片/Neutral Density,nd5, 岳華展 衰減鏡/衰減片/Neutral Density,nd3, 岳華展 衰減鏡/衰減片/Neutral Density,nd1, 岳華展    
    參考及注意事項

    1. 中性密度減光片(ND Filters)提供全客製化設計生產服務,可依客戶需求精準調配特定光學密度(OD 值)或指定雷射與光學波段之精確穿透率(如:532 nm、635 nm、850 nm、940 nm 等指定波長)。

    2. 中性密度衰減片係採用金屬合金材料真空蒸鍍而成,兼具光波部分吸收與部分反射之光學特質,因此光線穿透率(T)與反射率(R)之總和不會等於 100%(即存在部分光能吸收損失)。

    3. 鍍膜製程採用高階物理氣相沉積法之電子槍蒸鍍技術(PVD-EBGE / Physical Vapor Deposition-Electron Beam Gun Evaporation),膜層緻密性高、分佈均勻度優異,具備高耐熱性(450°C–500°C)與極佳之薄膜附著力。

    4. 標示之光譜穿透曲線均為垂直入射(入射角 0°,AOI=0°)下之光譜儀實際量測數據;標示之穿透率數值係為可見光波段(400–700 nm)之平均穿透值。

    5. 穿透與反射光譜曲線為生產樣品之實際測量結果,不同生產批次間可能存在微幅公差,但均嚴格控制於預設之光學密度與減光工程規格驗收標準內。

    6. 網站標示規格僅供參考,實際交貨品質與驗收標準嚴格以雙方簽署確認之正式技術規格書(Specification Sheet)為準。

    7. 瀏覽以下連結以獲取更多產品與技術資訊:

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