抗反射鍍膜玻璃(通稱低反射片、增透膜、AR 玻璃、Anti-Reflection Filters 或 AR Coating Glass)係採用高階真空多層介電質鍍膜技術製作之高穿透精密光學元件,專為極致降低玻璃表面光學反射率、消除重影(鬼影 / Ghosting)與眩光現象,並極大化光學系統之總光通量所設計。
功能說明:
未經鍍膜之普通光學玻璃兩表面約有 8% 至 9% 的自然光學反射損失(Fresnel Reflection)。本產品運用物理氣相沉積電子槍蒸鍍技術(PVD-EBGE)於高平坦度光學玻璃基板(如 SCHOTT D263T / B270、Corning EAGLE XG、Gorilla Glass 或高純度石英玻璃)之雙面精密沉積光學干涉薄膜。利用精確的破壊性光學干涉原理,能將指定光譜波段(如單波段雷射 AR、可見光寬頻 VIS-AR 400–700 nm、或近紅外 NIR-AR 750–1100 nm)之單面表面反射率大幅降至 $R < 0.5\%$ 甚至 $R < 0.2\%$,使整體穿透率高達 98.5%–99.5% 以上。膜層具備優異之高耐熱性(450°C–500°C)、高表面硬度與抗刮耐磨特性,長時間使用光學效能不退化。
應用領域:
高階數位相機與智慧型手機鏡頭保護鏡片、工業自動光學檢測(AOI 機器視覺)防塵保護窗、觸控面板與車載顯示器保護玻璃、雷射加工光學視窗、抬頭顯示器(HUD)及各類高解析度影像記錄儀器。
光學特性:
Tave>94% @ 420-680nm
可供應材質、厚度及尺寸:
青板: 0.4, 0.55, 0.7, 1.1mm
方形: 3x3 - 220x20mm
圓形: Dia3 - 210mm
最高安全溫度:
青板: 150℃
光學特性:
Tave>94% @ 420-680nm
可供應材質、厚度及尺寸:
青板: 1.1, 2, 3mm
強化玻璃: 2, 3, 4, 5mm
*因青板玻璃隨厚度增加, 吸收越多, 因此厚度越厚穿透率越低.
方形: 8x8 - 350x406mm
圓形: Dia8 - 340mm
*強化青板有最小尺寸限制
最高安全溫度:
青板: 150℃
強化青板: 250℃
光學特性:
Tave>94% @ 420-680nm
可供應材質、厚度及尺寸:
青板: 0.4, 0.55, 0.7, 1.1, 2, 3mm
強化玻璃: 2, 3, 4, 5mm
*因青板玻璃隨厚度增加, 吸收越多, 因此厚度越厚穿透率越低.
方形: 8x8 - 3550x406mm
圓形: Dia8 - 340mm
* 0.7mm以下(含)厚度不供應160*160mm以上尺寸
*強化青板有最小尺寸限制
最高安全溫度:
青板: 150℃
強化青板: 250℃
光學特性:
Tave>94% @ 420-680nm
可供應材質、厚度及尺寸:
青板: 0.4, 0.55, 0.7, 1.1, 2, 3mm
強化玻璃: 2, 3, 4, 5mm
*因青板玻璃隨厚度增加, 吸收越多, 因此厚度越厚穿透率越低.
方形: 8x8 - 3550x406mm
圓形: Dia8 - 340mm
* 0.7mm以下(含)厚度不供應160*160mm以上尺寸
*強化青板有最小尺寸限制
最高安全溫度:
青板: 150℃
強化青板: 250℃
光學特性:
Tave>98% @ 800-1064nm
可供應材質、厚度及尺寸:
B270: 1.1, 2.0, 3.0mm
D263t: 0.3, 0.55, 0.7mm
方形: 8x8 - 220x220mm
圓形: Dia8 - 210mm
* 0.7mm以下(含)厚度不供應100*100mm以上尺寸
最高安全溫度:
B270: 150℃
D263t: 350℃
光學特性:
Tave>98% @ 600-1000nm
可供應材質、厚度及尺寸:
B270: 1.1, 2.0, 3.0mm
D263t: 0.3, 0.55, 0.7mm
方形: 8x8 - 220x220mm
圓形: Dia8 - 210mm
* 0.7mm以下(含)厚度不供應100*100mm以上尺寸
最高安全溫度:
B270: 150℃
D263t: 350℃
光學特性:
Tave>96% @ 420-900nm
Tave>98% @ 900-100nm
可供應材質、厚度及尺寸:
B270: 1.1, 2.0, 3.0mm
D263t: 0.3, 0.55, 0.7mm
方形: 8x8 - 220x220mm
圓形: Dia8 - 210mm
* 0.7mm以下(含)厚度不供應100*100mm以上尺寸
最高安全溫度:
B270: 150℃
D263t: 350℃
1. 抗反射鍍膜玻璃(AR Windows)提供全客製化光學設計與生產服務,可依據客戶光路指定波長範圍(如單頻 AR、寬頻 VIS-AR、雙波段 AR 或近紅外 NIR-AR)調配專屬鍍膜結構。
2. 抗反射鍍膜採用多層介電質薄膜真空蒸鍍而成,鍍膜層數依反射率與指定寬頻光譜範圍要求不同,通常單面約為 4 至 12 層不等。
3. 鍍膜製程採用高階物理氣相沉積法之電子槍蒸鍍技術(PVD-EBGE / Physical Vapor Deposition-Electron Beam Gun Evaporation),薄膜緻密性高、光學吸收率極低,具備高耐熱性(450°C–500°C)與優異之附著力。
4. 標示之光譜穿透與反射曲線均為垂直入射(入射角 0°,AOI=0°)下之光譜儀實際量測數據;當入射角度增大時,低反射波段將產生微幅光譜偏移(藍移現象)。
5. 基板可選用高強度化學強化玻璃(如 Gorilla / Corning 等)或物理強化玻璃,受限於熱處理物理特性有最小厚度、尺寸及幾何形狀限制,詳細規範請參考強化玻璃技術簡介。
6. 穿透與反射光譜曲線為生產樣品之實際測量結果,不同生產批次間可能存在微幅公差,但均嚴格控制於預設之反射率與光學工程規格驗收標準內。
7. 網站標示規格僅供參考,實際交貨品質與驗收標準嚴格以雙方簽署確認之正式技術規格書(Specification Sheet)為準。
8. 瀏覽以下連結以獲取更多產品與技術資訊: