隔紫外片(通稱 UV 截止片、紫外反射片、紫外濾除片、UV STOP 或 UV BLOCK Filters)係採用高階多层介電質干涉鍍膜技術製作之精密光學濾光片,專為高效率阻絕高能量紫外線(UV)、保護敏感材質免受光化學破壞並維持高清晰可見光穿透所設計。
功能說明:
運用真空電子槍蒸鍍技術(PVD-EBGE)於高平坦度光學玻璃基板(如 SCHOTT B270、Borofloat 33 或 Corning EAGLE XG)上沉積數十層介電質薄膜。利用精密干涉原理,能將高能量之紫外線波段(近紫外 NUV 及深紫外 DUV,如 200–380 nm 或 400 nm 以下)高效率反射阻絕,同時維持可見光波段(400–700 nm)極高之光學穿透率與色彩忠實還原度。膜層耐高溫(450°C–500°C)、抗高能量紫外光老化照射,長時間使用不黃變、剝落或衰退。
應用領域:
博物館與美術館專用保護照明、半導體與面板黃光室(Yellow Room)防護光路、工業自動光學檢測(AOI 機器視覺)、攝影與高畫質影像鏡頭保護、專業醫療光學診斷設備及大功率 LED/鹵素燈具抗紫外防護蓋板。
光學特性:
T50%=370 +/- 15nm
Tave>88% @ 430-700nm
Tave<1% @ 200-340nm
可供應材質、厚度及尺寸:
青板: 1.1mm
強化青板: 2.0, 3.0mm
耐熱: 1.1mm
方形: 8x8 - 310x320mm
圓形: Dia8 - 300mm
最高安全溫度:
青板: 150℃
強化青板: 250℃
耐熱: 450℃
光學特性:
T50%=400 +/- 15nm
Tave>88% @ 450-700nm
Tave<1% @ 200-380nm
可供應材質、厚度及尺寸:
青板: 1.1mm
強化青板: 2.0, 3.0mm
耐熱: 1.1mm
方形: 8x8 - 310x320mm
圓形: Dia8 - 300mm
最高安全溫度:
青板: 150℃
強化青板: 250℃
耐熱: 450℃
光學特性:
T50%=425 +/- 15nm
Tave>88% @ 450-700nm
Tave<1% @ 200-400nm
可供應材質、厚度及尺寸:
青板: 1.1mm
強化青板: 2.0, 3.0mm
耐熱: 1.1mm
方形: 8x8 - 310x320mm
圓形: Dia8 - 300mm
最高安全溫度:
青板: 150℃
強化青板: 250℃
耐熱: 450℃
光學特性:
T50%=525 +/- 15nm
Tave>88% @ 550-700nm
Tave<1% @ 200-500nm
可供應材質、厚度及尺寸:
青板: 1.1mm
強化青板: 2.0, 3.0mm
耐熱: 1.1mm
方形: 8x8 - 310x320mm
圓形: Dia8 - 300mm
最高安全溫度:
青板: 150℃
強化青板: 250℃
耐熱: 450℃
1. 隔紫外片(UV-Cut Filter / UV-Stop)採用多層介電質干涉薄膜真空蒸鍍而成,鍍膜層數通常約在 24 至 32 層之間,可依據客戶光學系統之特定波長截止點與紫外阻絕深度需求進行客製化設計與生產。
2. 鍍膜製程採用高階物理氣相沉積法之電子槍蒸鍍技術(PVD-EBGE / Physical Vapor Deposition-Electron Beam Gun Evaporation),薄膜緻密性高、吸收率低且具備優異之高耐熱性(450°C–500°C)與高強度膜層附著力。
3. 標示之光譜穿透與反射曲線均為垂直入射(入射角 0°,AOI=0°)下之光譜儀實際量測數據;高能量紫外線係藉由干涉膜層高效率反射阻隔而非基材吸收。穿透與截止光譜波長會隨光線入射角度之變化而產生微幅偏移(藍移現象)。
4. 基板如需進行化學強化或物理強化處理,受限於加工物理特性有最小厚度、尺寸及幾何形狀限制,詳細規範請參考強化玻璃技術簡介。
5. 穿透與反射光譜曲線為生產樣品之實際測量結果,不同生產批次間可能存在微幅公差,但均嚴格控制於預設之光譜與光學工程規格驗收標準內。
6. 紫外光波段工程定義參考:
UV-A(長波長紫外線,400–315 nm)
UV-B(中波長紫外線,315–280 nm)
UV-C(短波長/殺菌紫外線,280–100 nm)。
7. 網站標示規格僅供參考,實際交貨品質與驗收標準嚴格以雙方簽署確認之正式技術規格書(Specification Sheet)為準。
8. 瀏覽以下連結以獲取更多產品與技術資訊: